韓國三星電子于25日宣布，已經成功出貨100萬個(gè)極紫外光(guāng)刻技術（EUV）生産的(de)業界首款10納米級DDR4 DRAM模組，将爲高(gāo)端PC、移動設備、企業服務器和(hé)資料中心應用(yòng)等提供更先進EUV制程技術産品，開啓新裏程碑。

據韓國媒體《KoreaBusiness》報導，三星電子DRAM産品與技術執行副總裁Lee Jung-bae指出，随著(zhe)以EUV技術所生産的(de)新型DRAM量産，展示三星對(duì)提供革命性的(de)DRAM解決方案以支援全球IT客戶需求的(de)承諾。另外，這(zhè)項重大(dà)進展也(yě)說明(míng)三星将如何透過即時(shí)開發高(gāo)端制程技術來(lái)生産高(gāo)端存儲器市場(chǎng)的(de)下(xià)一代産品，繼續爲全球IT創新貢獻心力。

報導表示，三星是首家在DRAM生産采用(yòng)EUV技術的(de)存儲器供應商，用(yòng)以克服DRAM發展上的(de)挑戰。因爲EUV技術的(de)采用(yòng)，減少了(le)多(duō)重影(yǐng)像制作中的(de)重複步驟，因此進一步提高(gāo)了(le)影(yǐng)像制作的(de)準确性，也(yě)增加了(le)産品的(de)性能與産量，也(yě)使得(de)生産時(shí)間縮短。

目前，三星的(de)EUV技術将從其第4代10納米級的(de)DRAM生産中開始全面部署。而三星也(yě)預計自2021年開始量産第4代10納米級的(de)DDR5和(hé)LPDDR5。而在這(zhè)樣的(de)制程下(xià)，将使12英寸晶圓的(de)生産效率提升1倍。而且，随著(zhe)2021年DDR5和(hé)LPDDR5市場(chǎng)的(de)擴展，三星也(yě)将進一步加強與IT客戶及半導體供應商優化(huà)标準規格合作，加速整個(gè)存儲器市場(chǎng)開始向DDR5和(hé)LPDDR等規格産品發展。

另外，爲了(le)滿足對(duì)新世代DRAM市場(chǎng)不斷成長(cháng)的(de)需求，三星也(yě)将在2020下(xià)半年開始在韓國平澤工業區(qū)内建立第二條存儲器産線。